Автор admin 
Він спокійно витримує температуру понад 3000 градусів Цельсія, при якій інші метали просто випаровуються. Проте вольфрам — матеріал капризний: його мізерно мало в земній корі, він дорогий, а виточити з нього складну деталь — справжнє катування для верстатів.
Читайте также: «Зовсім не те, що ви бачите із Землі». Астронавти місії Artemis 2 опублікували унікальне фото Місяця
Як пише видання Interesting Еngineering, саме тому німецькі вчені з Інституту Макса Планка та компанії IoLiTec вирішили не робити вузли реактора повністю з вольфраму, а просто«нарощувати» його тонким шаром на простіші та дешевші матеріали. Проблема була лише в тому, що класична гальваніка тут не працювала. Якщо спробувати осаджувати вольфрам у звичайних водних розчинах, система видає лише бульбашки водню, а поверхня залишається практично чистою.
Щоб обійти цей фізичний бар’єр, дослідники розробили абсолютно нову технологію на основі безводних електролітів та іонних рідин. Фактично вони прибрали воду з процесу, що нарешті дозволило чистому металу стабільно лягати на підкладку. Андреас Вайбель із Fraunhofer IPA пояснює масштаб прориву: «У світі досі не існувало методу електрохімічного осадження чистого вольфраму — ні в промислових цехах, ні навіть у стінах закритих лабораторій».
Читайте также: Для військових операцій. Китай планує побудувати сонячну електростанцію в космосі
Замість того, щоб мучитися зі складним механічним фрезеруванням конфліктного мінералу, якого в земній корі лише одна мільйонна частка, інженери тепер можуть«нарощувати» захисний шар на простіших та дешевших конструкційних матеріалах.
Новий метод дає повний контроль над товщиною та рівномірністю шару, що критично важливо для стабільності магнітних полів, які утримують розпечену плазму. Замість будівництва реакторів вартістю в мільярди доларів лише за залізо, індустрія отримує шлях до створення масштабованих і фінансово виправданих енергоблоків, здатних працювати роками без заміни внутрішньої броні.
Читайте также: За допомогою ШІ. Вчені створили надміцну й гнучку сталь для 3D-друку